Intenzivní revitalizační maska s mořskými řasami SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing
Základní přehled
-
Bez alkoholuNeobsahuje potenciálně dráždivý, nemastný alkohol
ANO -
Bez sulfátů Neobsahuje potenciálně škodlivé sulfáty
ANO -
Bez parabenů Neobsahuje potenciálně škodlivé parabeny
ANO -
Bez silikonů Neobsahuje těžko smývatelné silikony
ANO -
Bez parfemace a esenc. olejů Neobsahuje potenciálně dráždivou parfemaci
NE -
Bez lepkuNeobsahuje lepek
ANO
Složení (INCI)
SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing obsahuje 26 složek, z toho 16 složek v kategorii s nízkým rizikem, 6 složek v kategorii se středním rizikem a 2 složkám byste měli věnovat zvláštní pozornost, obzvlášť pokud jsou na začátku seznamu složek.
Údaje čerpáme z databáze Skin Deep®, která je celosvětově uznávaná stupnice na hodnocení bezpečnosti kosmetiky. Více informací o tom, jak chápat stupeň škodlivosti a naučit se číst složení kosmetiky.
Složení podle typu pleti
Suchá pleť
Dobré pro suchou pleť sodium hyaluronate, glycerin, butylene glycol
Špatné pro suchou pleť menthol
Mastná pleť
Dobré pro mastnou pleť glycyrrhiza glabra root extract, allantoin
Špatné pro mastnou pleť
Citlivá pleť
Dobré pro citlivou pleť titanium dioxide, allantoin, sodium hyaluronate
Špatné pro citlivou pleť menthol, fragrance, benzyl salicylate, linalool
Přehled složek
Zajímejte se o kosmetiku jako profesionál! Pokud jste zvědaví, co můžete očekávat od produktu SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing, přečtěte si seznam složek, ve kterém najdete informace o tom, jaké benefity můžete od něho očekávat.
Anti-akné
redukují počet vyrážek a brání jejich vzniku
#14glycyrrhiza glabra root extract
Podpora komunikace buněk
dokáží přikázat buňkám, aby se chovaly jako nové a zdravé buňky
#26acetyl hexapeptide-8
Rozjasňující složky
zesvětlují hnědé skvrny způsobené slunkem nebo PIH
#14glycyrrhiza glabra root extract
Pleti identické složky
přirozeně se nacházejí v pleti nebo připomínají chování složek v pleti
#15allantoin
#16sodium hyaluronate
#19glycerin
Zklidňující složky
pomáhají zklidnit podrážděnou pokožku
#14glycyrrhiza glabra root extract
#15allantoin
#17menthol
Sluneční ochrana
chrání před slunečním zářením
#9titanium dioxide
Abrazivní/Peelingové složky
vyhlazují a rozjasňují pleť
#2diatomaceous earth
#4zea mays starch
#6calcium sulfate
Absorbenty/Zmatňující složky
pomáhají absorbovat tekutiny jako vodu nebo olej
#1maltodextrin
#4zea mays starch
Pufrační složky
udržují správnou rovnováhu kyselosti/zásaditosti produktu
#8tetrasodium pyrophosphate
Chelatující složky
zachycují ionty kovů z produktu a stabilizují složení
#8tetrasodium pyrophosphate
Barviva
přidávají barvu do kosmetických výrobků
#7mica
#9titanium dioxide
#10ci 77491
#25gold
Změkčovadla/Emolienty
zjemňují a zvláčňují pokožku
#14glycyrrhiza glabra root extract
Zvlhčovače/Humektanty
zadržiavajú a uchovávajú vlhkosť v pokožke a vo vlasoch
#3glucose
#14glycyrrhiza glabra root extract
#15allantoin
#16sodium hyaluronate
#19glycerin
#21butylene glycol
#26acetyl hexapeptide-8
Vonné složky
dodávají produktu příjemnou vůni
#18fragrance
#22butylphenyl methylpropional
#23benzyl salicylate
#24linalool
Konzervační látky
prodlužují trvanlivost produktu
#11sodium benzoate
#12potassium sorbate
Rozpouštědla
rozpouštějí jiné látky
#201,2-hexanediol
#21butylene glycol
Regulátory viskozity
udržují stabilitu složení, vzhledu a textury produktu
#4zea mays starch
#5algin
#21butylene glycol
Deodorační složky
látky omezující činnost bakterií na pokožce, rozklad potu a vznik zápachu
#24linalool
Značka
Kategorie
Objem
150 g
Nahlásit chybu: SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing